Sputteren is een techniek waarmee men een dun laagje metaal op een kunststof onderdeel kan aanbrengen. Deze techniek wordt gebruikt om afscherm coatings te maken die aan extreem hoge eisen moeten voldoen.
De techniek vindt plaats in hoog vacuüm waarin argon wordt gebracht tot een druk van ongeveer 5E-3 mbar. Aan de ene wand is het materiaal wat gesputterd moet worden, dit is het zg target. Hier tegenover is het substraat aangebracht. Dit is het materiaal waar het gesputterde materiaal op aangebracht moet worden. Op het target wordt een spanning aangebracht van rond de -500V. Bij de genoemde druk ontstaat een plasma van o.a. positieve argon ionen, Deze ionen begeven zicht naar het negatief geladen target, waarbij door de botsing het target materiaal los laat en zich naar de overkant begeeft. Na een bepaalde tijd heeft zich hier een dunne laag gevormd. Het sputteren gaat sneller als achter het target een magneet wordt geplaatst. Het magnetisch veld zorgt voor een elektronische racebaan die een rond (of ovaal) erosiepatroon vormt in het target. Ook niet metalen kunnen gesputterd worden i.p.v. een DC spanning wordt dan een RF spanning gebruikt (vaak 13,65 MHz). Soms kan/moet een gas (samen met argon) worden toegevoegd om de gewenste laag te vormen. Dit wordt reactief sputteren genoemd.
Door dit metaal ionen bombardement smelt het metaaldeeltje als het ware in de kunststof zonder dat deze wordt aangetast. Een zeer hoge en zekere hechting is het resultaat.
Sputteren is een techniek waarmee men een dun laagje metaal op een kunststof onderdeel kan aanbrengen. Deze techniek wordt gebruikt om afscherm coatings te maken die aan extreem hoge eisen moeten voldoen. 
